Hakuto 全自动离子蚀刻机 MEL3100 产品资料发布日期：2021-03-04

Hakuto 全自动离子蚀刻机 MEL3100 具有良好的均匀性和高蚀刻率, 刻蚀均匀度: ±5%, 硅片 Si 蚀刻速率 >10 nm/min, 具有高冷却效果.

所有流程全自动减少人工操作, 从而保证了产品的无差错、高稳定性和高质量.

占用空间小, 容易维护和用户操作友好.

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