hakuto 离子刻蚀机运用于 PDMS 软刻蚀用母模板研究
西南某高校在 PDMS 软刻蚀用母模板研究中有采用到伯东 Hakuto 离子蚀刻机 7.5IBE .
Hakuto 离子蚀刻机 7.5IBE 技术规格:
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真空腔
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1 set, 主体不锈钢,水冷
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基片尺寸
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1 set, 4”/6”ϕ Stage, 直接冷却,
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离子源
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ϕ 8cm 考夫曼离子源 KDC75
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离子束入射角
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0 Degree～± 90 Degree
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极限真空
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≦1x10-4 Pa
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刻蚀性能
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一致性: ≤±5% across 4”
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该 Hakuto 离子刻蚀机 7.5IBE 的核心构件离子源是配伯东公司代理美国考夫曼博士创立的 KRI考夫曼公司的考夫曼离子源 KDC 75
伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC75 技术参数：
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离子源型号
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离子源 KDC 75
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Discharge
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DC 热离子
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离子束流
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>250 mA
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离子动能
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100-1200 V
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栅极直径
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7.5 cm Φ
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离子束
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聚焦, 平行, 散射
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流量
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2-15 sccm
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通气
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Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
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典型压力
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< 0.5m Torr
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长度
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20.1 cm
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直径
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14 cm
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中和器
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灯丝
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采用伯东 Hakuto 离子刻蚀机 7.5IBE 刻蚀加工软刻蚀母模板具有操作步骤简单, 制备周期短的特点, 是一种有效的制备软刻蚀母模板的设备
若您需要进一步的了解详细产品信息或讨论 , 请参考以下联络方式 :
上海伯东 : 罗先生 台湾伯东 : 王小姐
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