1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.
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霍尔离子源 射频离子源 考夫曼离子源 离子源自动控制器 模块化离子源电源
KRI 考夫曼射频型离子源 Gridded RFICP 属于栅网离子源, 可选聚焦型射频离子源, 平行型射频离子源, 散射型射频离子源.
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美国 KRI 射频离子源 RFICP 380
上海伯东美国 KRi 大口径射频离子源 RFICP 380, 3层栅极设计, 栅极口径 38cm, 提供离子动能 100-1200eV 宽束离子束, 最大离子束流 > 1000mA, 满足 300 mm (12英寸)晶圆应用.
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美国 KRI 射频离子源 RFICP 系列
上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 射频离子源, 离子束可选聚焦, 平行, 散射.
离子束流: >100 mA~1500mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000.
采用射频技术产生离子, 无需电离灯丝, 工艺时间更长, 更适合时间长的工艺要求. 提供高密度离子束, 满足高工艺需求.
离子源采用模块化设计, 方便清洁/ 保养/ 维修/ 安装.
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美国 KRI 射频离子源 RFICP 220
上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 射频离子源 RFICP 220, 大面积高能量栅网离子源.
离子束流: >800 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000; 流量(Typical flow): 10-40 sccm; 压力: < 0.5m Torr
离子束可选聚焦, 平行, 散射.
采用射频技术产生离子, 无需电离灯丝, 工艺时间更长.
通入气体可选 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others.
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美国 KRI 射频离子源 RFICP 140
伯东 KRI 射频离子源 RFICP 140 离子束可选聚焦, 平行, 散射
| 型号 |
Discharge |
离子束流 |
离子动能 |
离子束 |
流量 |
典型压力 |
中和器 |
栅极直径 |
长度 |
直径 |
通气 |
| RFICP 140 |
RFICP 射频 |
>600 mA |
100-1200 V |
聚焦, 平行, 散射 |
5-30 sccm |
< 0.5m Torr |
LFN 2000 |
14 cm Φ |
24.6 cm |
24.6 cm |
Ar, Kr, Xe, O2,
N2, H2, 其他
|
产品详细资料
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美国 KRI 射频离子源 RFICP 100
伯东 KRI 射频离子源 RFICP 100 离子束可选聚焦/ 平行/ 散射
| 型号 |
Discharge |
离子束流 |
离子动能 |
栅极直径 |
离子束 |
流量 |
典型压力 |
中和器 |
通气 |
长度 |
直径 |
| RFICP 100 |
RFICP 射频 |
>350 mA |
100-1200 V |
10 cm Φ |
聚焦, 平行, 散射 |
5-30 sccm |
< 0.5m Torr |
LFN 2000 |
Ar, Kr, Xe, O2,
N2, H2, 其他
|
23.5 cm |
19.1 cm |
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美国 KRI 射频离子源 RFICP 40
KRI 射频离子源 RFICP 40 离子束可选聚焦/ 平行/ 散射.
| 离子源型号 |
Discharge |
离子束流 |
离子动能 |
栅极直径 |
离子束 |
流量 |
典型压力 |
中和器 |
长度 |
直径 |
| RFICP 40 |
RFICP 射频 |
>100 mA |
100-1200 V |
4 cm Φ |
聚焦, 平行, 散射 |
3-10 sccm |
< 0.5m Torr |
LFN 2000 |
12.7 cm |
13.5 cm |
* 可选: 灯丝中和器; 可变长度的增量
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