KRI 考夫曼离子源 Gridded KDC

KRi 离子源

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源霍尔离子源射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.
离子源     
         霍尔离子源                       射频离子源                   考夫曼离子源                   离子源自动控制器

 

KRI 考夫曼离子源 Gridded KDC 属于栅网离子源, 可选聚焦型考夫曼离子源, 平行型考夫曼离子源, 散射型离子源.

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