1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.
霍尔离子源 射频离子源 考夫曼离子源 离子源自动控制器
上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 考夫曼离子源 KDC 160. 离子束可选聚焦/ 平行/ 散射. 适用于已知的所有离子源应用.
离子源型号 | Discharge | 离子束流 | 离子动能 | 离子束 | 流量 | 典型压力 | 中和器 | 栅极直径 | 长度 | 直径 | 通气 |
离子源 KDC 160 | DC 热离子 | >650 mA | 100-1200 V | 聚焦, 平行, 散射 | 2-30 sccm | < 0.5m Torr | 灯丝 | 16 cm Φ | 25.2 cm | 23.2 cm |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
* 可选: 可调角度的支架
产品详细资料 查看所有型号上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 考夫曼离子源 KDC 75, 紧凑栅网离子源, 离子束可选聚焦/ 平行/ 散射.
离子源型号 | Discharge | 离子束流 | 离子动能 | 离子束 | 流量 | 典型压力 | 中和器 | 栅极直径 | 长度 | 直径 | 通气 |
离子源 KDC 75 | DC 热离子 | >250 mA | 100-1200 V | 聚焦, 平行, 散射 | 2-15 sccm | < 0.5m Torr | 灯丝 | 7.5 cm Φ | 20.1 cm | 14 cm | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
* 可选: 一个阴极灯丝; 可调角度的支架
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