Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 用于制作闪耀罗兰光栅
长春某研究所在制作闪耀罗兰光栅的研究中采用伯东 Hakuto 离子蚀刻机 10IBE,制造出的闪耀罗兰光栅比其他工艺制造的光栅产品整体衍射效率高25%, 实现高衍射效率闪耀罗兰光栅制作, 且工艺可控、稳定, 所制作的闪耀罗兰光栅衍射效率高于市场同类产品.
Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 技术参数:
|
基板尺寸
|
< Ф8 X 1wfr
|
|
样品台
|
直接冷却（水冷）0-90 度旋转
|
|
离子源
|
16cm 考夫曼离子源
|
|
均匀性
|
±5% for 4”Ф
|
|
硅片刻蚀率
|
20 nm/min
|
|
温度
|
<100
|
.jpg)
Hakuto 离子刻蚀机 10IBE 离子源是配伯东公司代理美国考夫曼博士创立的 KRI考夫曼公司的考夫曼离子源 KDC 160
.jpg)
伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC160 技术参数：
|
离子源型号
|
离子源 KDC 160
|
|
Discharge
|
DC 热离子
|
|
离子束流
|
>650 mA
|
|
离子动能
|
100-1200 V
|
|
栅极直径
|
16 cm Φ
|
|
离子束
|
聚焦, 平行, 散射
|
|
流量
|
2-30 sccm
|
|
通气
|
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
|
|
典型压力
|
< 0.5m Torr
|
|
中和器
|
灯丝
|
Hakuto 离子刻蚀机 10IBE 真空腔采用 Pfeiffer 涡轮分子泵 Hipace 700, 可抽的真空度 < 1 · 10-7 hpa, 良好的保持真空腔的真空度.
若您需要进一步的了解详细产品信息或讨论 , 请参考以下联络方式 :
上海伯东 : 罗先生 台湾伯东 : 王小姐
T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076 M: +886-939-653-958
www.hakuto-china.cn www.hakuto-vacuum.com.tw
伯东版权所有, 翻拷必究!
