KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 制备 IFBA 芯块 ZrB2 涂层
某科研机构在 IFBA 芯块 ZrB2 涂层研究中采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 辅助镀膜设备溅射沉积 ZrB2 涂层.
KRI 射频离子源 RFICP380 技术参数:
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射频离子源型号
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RFICP380
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Discharge 阳极
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射频 RFICP
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离子束流
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>1500 mA
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离子动能
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100-1200 V
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栅极直径
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30 cm Φ
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离子束
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聚焦, 平行, 散射
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流量
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15-50 sccm
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通气
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Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
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典型压力
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< 0.5m Torr
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长度
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39 cm
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直径
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59 cm
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中和器
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LFN 2000
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研究利用金相显微镜、扫描电子显微镜、X射线衍射仪、电感耦合等离子体发射光谱仪、胶带粘附性剥离等方法测定了沉积 ZrB2 涂层的厚度、形貌、物相结构、成分、附着力以及沉积速率等性能参数, 研究了各溅射工艺条件如芯块表面清洁度、溅射气体压力、溅射功率密度和转鼓转速对ZrB 涂层沉积率和附着力的影响.
KRI 离子源的独特功能实现了更好的性能, 增强的可靠性和新颖的材料工艺. KRI 离子源已经获得了理想的薄膜和表面特性, 而这些特性在不使用 KRI 离子源技术的情况下是无法实现的.
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