美国考夫曼公司Gridded Ion Sources (栅极离子源) 系列 RFCIP离子源 (射频电源式考夫曼离子源), KDC 离子源 (直流电源式考夫曼离子源) 已广泛被应用于离子溅射镀膜 (IBSD) 工艺.
离子溅射镀膜是在部分真空的溅射室中辉光放电, 产生正的气体离子；在阴极（靶）和阳极（试样）间电压的加速作用下, 荷正电的离子轰击阴极表面, 使阴极表面材料原子化；形成的中性原子, 从各个方向溅出, 射落到试样的表面, 于是在试样表面上形成一层均匀的薄膜.
伯东 KRI考夫曼离子源可控制离子的强度及浓度, 使溅射 (Sputtering) 时靶材 (Target) 被轰击出具有中和性材料分子而获得高致密, 高质量之薄膜. 考夫曼离子源可依客户溅射 (Sputtering) 工艺条件选择 RFICP 离子源 (射频电源式考夫曼离子源) 或是 KDC 离子源 (直流电原式考夫曼离子源).
规格如下:
RFCIP 离子源 (射频式考夫曼离子源) : RFICP 40, RFICP 100, RFICP 140, RFICP 220, RFICP 380
KDC 离子源 (直流式考夫曼离子源): KDC10, KDC40, KDC75, KDC100, KDC160.
伯东公司为 Kaufman & Robinson, Inc (美国考夫曼公司) KRI 离子源大中国区总代理.
上海伯东是日本 NS 离子蚀刻机, 美国 KRI 考夫曼离子源, 德国 ph-instruments 磁悬浮转子真空计, 德国 普发 Pfeiffer 真空设备, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 HVA 真空阀门, 美国 Gel-pak 芯片包装盒,比利时原装进 口 Europlasma 等离子表面处理机 , 和 美国 Ambrell 感应加热设备 等进口知名品牌的指定代理商 .我们真诚期待与您的合作!
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