离子刻蚀是利用众所周知的阴极溅射效应对表面进行选择性的剥离加工. 由于轰击粒子小和离子刻蚀过程的计量极为精确, 因此, 用这种方法加工表面, 使表面溶解深度在单原子层范围内. 离子刻蚀可用来清洗, 抛光或进行薄刻蚀. 简单的说利用离子轰击作用, 对材料表面进行刻蚀的过程.
伯东 KRI 射频离子源 RFICP 系列已广泛被应用于离子刻蚀 (IBE) 工艺.
伯东 KRI 离子源考夫曼离子源具有高离子浓度 (High beam currents) 及低离子能量 (Low beam energies). 此两个特殊条件对于刻蚀效率及刻蚀中避免伤害到工件表面材质可以达到优化. 并且可以依客户之工件尺寸选择所对应之型号: 射频离子源 RFICP 380, 射频离子源 RFICP 220, 射频离子源 RFICP 140, 射频离子源 RFICP 100, 射频离子源 RFICP 40
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