1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.
霍尔离子源 射频离子源 考夫曼离子源 离子源自动控制器
KRI 离子源电源专用于为离子源、等离子体源及电子源供电。即使在动态负载条件下,依然能输出稳定、可靠的功率,以满足精密等离子体工艺的严格要求。
上海伯东是 KRI 考夫曼离子源全国总代理.
上海伯东代理 美国KRI 脉冲直流溅射电源, 是一款单输出、3000瓦的高性能电源,专为脉冲直流 与直流磁控溅射 工艺而设计。该电源能为磁控溅射靶材提供稳定可靠的动力,完美适用于对工艺控制要求极高的反应性溅射 与非反应性溅射 过程
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