KRI 离子源中和器

KRI 离子源

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源霍尔离子源射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.
离子源     
         霍尔离子源                       射频离子源                   考夫曼离子源                   离子源自动控制器

 

KRI 离子源中和器, KRI 提供多种低能量、高电流电子源,包括热阴极与空心阴极技术,专用于离子束中和、等离子体生成及磁控溅射增强。提供包含电源、流量控制器的完整产品套件,适用于惰性及反应性气体环境。

CONTACT

您好, 我们的联络方式:
电话: +86-21-5046-1322
地址: 上海市浦东新区新金桥路1888号36号楼7楼702室 201206

PRODUCTS 产品菜单

DOWNLOAD

在线谘询

谘询

电话

微信

微信

TOP