1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.
霍尔离子源 射频离子源 考夫曼离子源 离子源自动控制器
KRI 离子源中和器
参数 | 详情 |
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适配离子源 | EH1000、EH2000、EH3000、EH5000 等系列 |
电子发射特性 | 能够提供高效、稳定的电子发射,以实现对离子源正离子束的有效中和 |
工作环境 | 适用于高真空、低气压等多种真空环境条件 |
安装方式 | 设计便于与真空设备和离子源系统集成安装 |
参数 | 详情 |
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适配离子源型号 | EH200/400 等系列(具体适配范围可能因实际应用和配套系统有所不同) |
电子发射特性 | 能够快速、稳定地产生大量电子,以实现高效的电荷中和 |
工作气体环境 | 适用于惰性气体和反应性气体环境5 |
安装方式 | 可安装在离子源或真空系统的侧面 |
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