伯东NS 10 IBE离子束刻蚀机用于物理量传感器（MEMS）加工
上海伯东某科研客户的研究方向是物理量传感器，用于监测土壤的力学结构变化，一般用于山体、岩石和冻土等环境研究。这种传感器通过镀膜、沉积、刻蚀等工艺多次循环来加工，Au 和 Pt 是传感器加工中常用的涂层，在完成镀膜（溅镀 Sputter 或者电子束蒸镀 E-beam）用传统的湿法刻蚀、ICP 刻蚀和 RIE 刻蚀等工艺无法有效的刻蚀出所需的图形。离子束刻蚀 IBE 作为最有效的刻蚀方案可以解决这个问题，刻蚀那些很难刻蚀的硬质或惰性材料。
伯东研制生产的NS 10 IBE系统可以满足4寸及以下样品的IBE刻蚀，通常应用于以下刻蚀材料：
NS 10 IBE设备技术参数如下：
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基板尺寸
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4寸
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样品台
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干式橡胶卡盘+直接冷却（水冷）+0-±90 度旋转
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离子源
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考夫曼源Well-2100（栅网φ100mm）
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均匀性
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≤5%（4寸Si晶圆）
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刻蚀速率
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20nm/min （Si晶圆）
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真空度
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1E-3Pa（45min内）
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真空系统
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日本KASHIYAMA干泵+德国普发分子泵
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NS 10 IBE设备刻蚀速率如下：
NS 10 IBE刻蚀数据：
伯东离子蚀刻机其余应用:
Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 用于陶瓷板 Pt、Au、Cr 薄膜刻蚀 (hakuto-china.cn)
Hakuto 离子蚀刻机 7.5IBE 用于芯片去层 (hakuto-china.cn)
Hakuto 离子刻蚀机 20IBE-C 用于半导体晶圆刻蚀 (hakuto-china.cn)
伯东离子刻蚀机 IBE 用于金铜镍银铂等材料微米级刻蚀 (hakuto-china.cn)
伯东离子蚀刻机主要优点
1. 干式制程的微细加工装置, 使得在薄膜磁头, 半导体元件, MR sensor 等领域的开发研究及量产得以广泛应用.
2. 物理蚀刻的特性, 无论使用什么材料都可以用来加工, 所以各种领域都可以被广泛应用.
3. 配置使用美国考夫曼离子源
4. 射频角度可以任意调整, 蚀刻可以根据需要做垂直, 斜面等等加工形状.
5. 基板直接加装在直接冷却装置上, 所以可以在低温环境下蚀刻.
6. 配置公转自转传输机构, 使得被蚀刻物可以得到比较均匀平滑的表面.
7. 机台设计使用自动化的操作流程, 所以可以有非常友好的使用生产过程.
伯东离子蚀刻机应用领域
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美国 KRI 射频离子源 RFICP 220 (hakuto-china.cn)
美国 KRI 射频离子源 RFICP 140 (hakuto-china.cn)
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Hakuto 日本原装设计制造离子刻蚀机 IBE, 提供微米级刻蚀, 满足所有材料的刻蚀, 即使对磁性材料,黄金 Au, 铂 Pt, 合金等金属及复合半导体材料, 这些难刻蚀的材料也能提供蚀刻. 可用于反应离子刻蚀 RIE 不能很好刻蚀的材料. 自 1970年至今, Hakuto 伯东已累计交付约 500套离子蚀刻机. 蚀刻机可配置德国 Pfeiffer 涡轮分子泵和美国 KRI 考夫曼离子源!
上海伯东是日本 NS 离子蚀刻机, 德国 Pfeiffer 真空设备, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 比利时原装进口 Europlasma 等离子表面处理机 和美国 Ambrell 感应加热设备等进口知名品牌的指定代理商 .我们真诚期待与您的合作!
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