KRI 考夫曼离子源应用案例发布日期：2023-10-13

KRI 离子源应用于车载AR-HUD 镀膜

HUD 已经成为一种常见的汽车配置与功能, 通过它来直观显示速度、发动机转速或其他悬停在驾驶员视野中的信息, 减少因低头查看仪表盘而造成的分心, 提升驾驶安全. 目前量产的车用抬头显示 HUD 正在从风挡型 W-HUD 逐渐向增强现实型的 AR-HUD 发展：从单纯的信息展示屏幕, 变成了具有在实际路况位置产生警示符号的增强现实(AR) 效果.

W-HUD/AR-HUD 一直都依赖光学凹面镜成像原理实现距离与视觉尺寸的放大, AR-HUD最大的技术挑战在于:高放大倍率所衍生的高倍率畸变差晕眩问题与太阳光倒灌烧毁光机的问题. 要使用越小的体积产生同样的长虚像距离 (VID) 距离, 放大倍率就得越大. 放大倍率越大, 阳光倒灌与晕畸变差眩就越严重. 防阳光倒灌滤光片可通过 RGB 窄带滤光片来实现. 滤光片可实现可见光波段的高透过率, 同时截止近红外和紫外波段, 获得极高的亮度测量灵敏度和动态范围.

KRi 离子源应用于车载AR-HUD 镀膜

上海伯东某客户使用自主研发的高端镀膜设备, 配备美国 KRI 射频离子源辅助镀膜通过测验, 得到具有高透过率、高匹配精度、膜层致密度和牢固度优质, 高低温变化波长不漂移, 恶劣环境下耐久性良好的 RGB 窄带滤光片, 上海伯东为车载AR-HUD TFT 防阳光倒灌提供了优质镀膜解决方案.

上海伯东美国 KRi 射频离子源 RFICP 系列, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的离子束, 通过栅极控制离子束的能量和方向, 单次工艺时间更长! 射频源 RFICP 系列提供完整的系列, 包含离子源本体, 电子供应器, 中和器, 自动控制器等. 射频离子源适合多层膜的制备, 离子溅镀镀膜和离子蚀刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均匀性, 附着力等.

射频离子源 RFICP 系列技术参数:

型号	RFICP 40	RFICP 100	RFICP 140	RFICP 220	RFICP 380
Discharge 阳极	RF 射频	RF 射频	RF 射频	RF 射频	RF 射频
离子束流	>100 mA	>350 mA	>600 mA	>800 mA	>1500 mA
离子动能	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V
栅极直径	4 cm Φ	10 cm Φ	14 cm Φ	22 cm Φ	38 cm Φ
离子束	聚焦, 平行, 散射
流量	3-10 sccm	5-30 sccm	5-30 sccm	10-40 sccm	15-50 sccm
通气	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型压力	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr
长度	12.7 cm	23.5 cm	24.6 cm	30 cm	39 cm
直径	13.5 cm	19.1 cm	24.6 cm	41 cm	59 cm
中和器	LFN 2000

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KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 溅射沉积 Ir 膜 (hakuto-china.cn)

美国 KRI 射频离子源 RFICP 220 (hakuto-china.cn)

美国 KRI 射频离子源 RFICP 140 (hakuto-china.cn)

美国 KRI 射频离子源 RFICP 100 (hakuto-china.cn)

美国 KRI 射频离子源 RFICP 40 (hakuto-china.cn)

上海伯东同时提供真空系统所需的涡轮分子泵, 真空规, 高真空插板阀等产品, 协助客户生产研发高质量的真空系统.
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域.

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