铱 (Ir) 是一种很好的真空紫外反射材料. 在 50100nm 的波长范围内, Ir 膜反射率比此波长范围内常用材料 Au、Pt 都高, 虽比 Os 膜反射率稍低, 但后者时效效应严重. 相比之下, 空气中的时效对 Ir 膜反射率几乎没有影响, 考虑综合性能, Ir 膜在真空紫外波段 50100nm 范围内最佳.
安徽某大学课题租采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 , 在石英、K9 玻璃和 Si 基片上溅射沉积不同厚度的 Ir 膜各种不同厚度的 Ir 膜, 研究基片、表面厚度、离子束能量对 Ir 膜反射率的影响.
伯东 KRI 射频离子源 RFICP220 技术参数:
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离子源型号 |
RFICP220 |
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Discharge |
RFICP 射频 |
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离子束流 |
>800 mA |
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离子动能 |
100-1200 V |
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栅极直径 |
20 cm Φ |
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离子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
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流量 |
10-40 sccm |
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通气 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型压力 |
< 0.5m Torr |
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长度 |
30 cm |
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直径 |
41 cm |
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中和器 |
LFN 2000 |
* 可选: 灯丝中和器; 可变长度的增量
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试验中, 采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 辅助磁控溅射沉积的方法获得均匀致密、大面积的 Ir 膜, 沉积过程中通过调节参数, 沉积时间等从而得到不同厚度的 Ir 薄膜材料, 满足各种试验需求.
KRI 离子源的独特功能实现了更好的性能, 增强的可靠性和新颖的材料工艺. KRI 离子源已经获得了理想的薄膜和表面特性, 而这些特性在不使用 KRI 离子源技术的情况下是无法实现的.
因此, 该研究项目才采用 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 辅助溅射沉积工艺.
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