在半导体制造这一高精度领域,环境的稳定性和可控性是确保半导体质量和性能的关键因素。其中,气体流量和压力的精确控制尤为重要,因为微小的变化都可能对最终产品产生重大影响。真空阀门作为一种关键部件,在半导体制造过程中发挥着不可或缺的作用。
二、真空阀门在半导体制造中的应用
(一)精确控制气体流量和压力
在半导体制造设备中,真空阀门被广泛用于精确控制气体进入或离开反应室的流量,从而确保反应室内的压力稳定。这对于半导体晶片的生长质量和性能保障至关重要。例如,在化学气相沉积(CVD)或物理气相沉积(PVD)等工艺过程中,精确的气体流量和压力控制是实现高质量薄膜沉积的基础。
(二)维持真空环境
镀膜是半导体制造中的常见技术,通过在半导体表面覆盖一层薄膜,可以改变其电学、光学或机械性质。在这个过程中,真空环境是必不可少的,因为任何气体杂质都可能影响镀膜的质量和均匀性。真空阀门能够精确地控制气体的流动,从而维持所需的真空环境,确保镀膜质量和效率。
三、HVA 真空阀门产品特点及优势
伯东企业(上海)有限公司代理的美国第一大阀门制造商 HVA 的真空阀门产品,具有众多卓越特性。
1. 密封可靠
采用先进的密封技术,确保在各种工况下都能有效防止气体泄漏,保证系统的真空度和稳定性。
2. 动作平稳
阀门的开闭动作平稳,避免了因突然的压力变化或机械冲击对系统造成的不良影响。
3. 操作灵活
操作人员可以方便地对阀门进行操作,无论是手动操作还是通过自动化控制系统进行远程操作,都能实现精准控制。
4. 容易清洗
其结构设计便于清洗,这对于保持阀门的性能和延长使用寿命至关重要,尤其是在半导体制造这种对洁净度要求极高的环境中。
5. 密封部件耐磨性好
密封部件采用高品质材料,具有良好的耐磨性,能够在长时间的使用过程中保持良好的密封性能,减少维护成本。
6. 使用寿命长
综合上述优点,使得 HVA 真空阀门具有较长的使用寿命,能够满足半导体制造过程中长时间、高强度的使用需求。
7. 可快速开关、防抱死功能
能够快速响应系统的控制指令,实现快速开关,同时具备防抱死功能,确保阀门在各种复杂工况下都能正常工作。
8. 紧凑型设计
紧凑的设计使得阀门在半导体制造设备中能够节省空间,便于系统的集成和布局优化。
这些优点使得美国 HVA 的真空阀门成为半导体工艺中不可或缺的关键部件。
四、HVA 11000 系列真空阀门产品介绍
(一)产品概述
11000 系列标准循环闸阀专为高真空和超高真空应用而设计。适用于多种法兰类型,包括 KF、ISO - F、ISO - K、CF - F、ASA 和 JIS 等,可应用于低温泵、涡轮泵、离子泵等多种设备。
(二)技术规格
a. 材料
阀体和闸板:采用 304 不锈钢材料,具有良好的耐腐蚀性和机械性能。
焊接波纹管轴封:使用 AM - 350 材料,确保密封性能。
阀盖 / 闸板密封:采用 HV、Viton 弹性体以及 HV、铜 / Viton 弹性体等材料,提供可靠的密封效果。
b. 压力范围
真空压力范围为mbar 至mbar。
氦泄漏率小于mbarl/s。
关闭时的压差在任一方向为 1 bar。
打开前的最大压差为 30 mbar。
c. 温度范围
无电磁阀时,烘烤温度为 150°C。
弹性体密封阀盖时,阀门打开温度为 200°C,关闭温度为 150°C。
金属密封阀盖时,阀门打开温度为 200°C,关闭温度为 150°C。
d. 执行器
手动操作时,温度为 60°C。
气动操作时,温度为 60°C。
机制压力为 80 psig。
气动空气服务时,电磁阀为 4.0 Watts,供电电压为 120VAC,50/60 Hz,可选电压包括 24、200、240VAC 50/60 Hz 或 12、24V DC。
e. 位置指示器
最大为 115 VAC 或 28 VDC,20 mA。
f. 安装位置
任意安装位置。
g. 循环次数
可达 100,000 次循环(取决于工艺)。
在售产品:
上海伯东是德国 Pfeiffer 真空设备, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商 .我们真诚期待与您的合作!
若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:
上海伯东: 罗女士 台湾伯东: 王女士
T: +86-21-5046-3511 ext 108 T: +886-03-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490 F: +886-03-567-0049
M: +86 152-0195-1076 M: +886-939-653-958
上海伯东版权所有, 翻拷必究!