Hakuto Genius 质谱仪
Hakuto Genius 质谱仪是伯东企业(上海)有限公司推出的智能、快速、精准的气体分析高效解决方案。
Hakuto Genius 质谱仪采用高性能四极杆质谱技术，配备电子轰击型离子源及双检测器系统，适用于气体纯度分析、真空监测、泄漏检测以及实时过程控制，涵盖气体杂质分析、半导体制造及先进材料加工等领域。
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优势 |
说明 |
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智能软件 |
集成式软件，用于直观控制、数据采集和定量分析，支持高级数据分析 |
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应用范围广泛 |
适用于气体纯度分析、真空监测、泄漏检测以及实时过程控制， 涵盖气体杂质分析、半导体制造及先进材料加工等领域 |
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高性能 |
高达1000次读数/秒/amu扫描速率，采用先进四极杆技术及双检测器系统， 实现优异质量分离与宽动态范围 |
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灵活定制 |
Hakuto Genius质谱仪支持按需定制， 可根据具体应用需求提供个性化配置 |
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参数项 |
规格 |
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技术平台 |
高性能四极杆质谱(QMS) |
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质量范围 |
1-100/200/300 amu（可选） |
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分析器类型 |
四极杆质量分析器 |
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离子源 |
电子轰击型（Electron Impact） |
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检测器类型 |
法拉第杯（Faraday）+ 电子倍增管（SEM） |
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扫描速率 |
高达1000次读数/秒/amu |
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真空系统 |
集成式紧凑系统，配备涡轮分子泵 |
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取样压力范围 |
1E-5 torr 至 30 psi |
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通讯接口 |
D-sub 15针 |
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工业4.0支持 |
支持工业4.0标准 |
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应用领域 |
具体应用 |
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腔室管理 |
腔室特征分析和匹配 |
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原子层沉积/刻蚀 |
原子层沉积（ALD）及原子层刻蚀（ALE）工艺 |
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干泵状态监测 |
干泵运行状态监测与故障预警 |
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泄漏检测 |
真空系统及工艺腔室泄漏检测 |
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气体输送监测 |
气体纯度及杂质分析 |
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极紫外光刻 |
EUV光刻镜面污染监测 |
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气体纯度分析 |
工艺气体纯度及杂质分析 |
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半导体制造 |
半导体工艺过程控制与监测 |
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先进材料加工 |
先进材料研发与生产过程控制 |
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实时过程控制 |
工艺过程实时监测与反馈控制 |
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