KRI 考夫曼离子源 KDC 40
KRI 考夫曼离子源 KDC 40
上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 考夫曼离子源 (栅网离子源) KDC40. 离子束可选聚焦/ 平行/ 散射. 适用于已知的所有离子源应用.
离子束流: >100 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: 灯丝, 流量 (Typical flow): 2-10 sccm.
加热灯丝产生电子, 增强设计输出高质量, 稳定的电子流.
离子源采用模块化设计, 方便清洁/ 保养/ 维修/ 安装.
无需水冷, 降低安装要求并排除腔体漏水的几率, 双阴极设计.
伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 技术参数:
离子源型号 |
|
Discharge |
DC 热离子 |
离子束流 |
>100 mA |
离子动能 |
100-1200 V |
栅极直径 |
4 cm Φ |
离子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
流量 |
2-10 sccm |
通气 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
典型压力 |
< 0.5m Torr |
长度 |
17.1 cm |
直径 |
9 cm |
中和器 |
灯丝 |
伯东 KRI 考夫曼离子源 KDC 40 应用领域:
1. 溅镀和蒸发镀膜 PC
2. 辅助镀膜(光学镀膜)IBAD
3. 表面改性, 激活 SM
4. 离子溅射沉积和多层结构 IBSD
5. 离子蚀刻 IBE
KRI 考夫曼离子源 Gridded KDC 系列应用案例:
1. 伯东 KRI 离子源成功应用于离子溅射镀膜 (IBSD)
2. 伯东 KRI Gridded 考夫曼离子源用于离子束抛光工艺
点击查看更多 KRI 离子源应用案例 》》》
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