KRI 直流 (DC) 溅射电源

DC Sputter Power Supply

产品描述

上海伯东代理美国 KRI 考夫曼离子源直流溅射电源, 它是一款专为标准磁控溅射工艺设计的高性能电源。它采用业界领先的1U超薄设计，在节省宝贵机架空间的同时，提供高达1500W的稳定功率输出。该电源以其卓越的电弧管理能力为核心优势，能有效保护靶材与基片，确保工艺的稳定性和薄膜质量，尤其适合金属、合金等导电材料的溅射沉积。

  • 技术参数
  • 产品优势
  • 应用领域
  • 技术特点图

  • KRI 直流 (DC) 溅射电源 技术参数：

    参数类别 规格描述
    输出功率 1500W (稳定输出范围：25 - 1500W)
    输出电压/电流 0-1000 V / 0-4 A
    满功率阻抗范围 1:7 (94 – 667 Ω)
    电弧抑制 检测时间 <100纳秒，能量 <1毫焦
    控制模式 电压、电流、功率调节模式
    工艺控制 可调功率斜坡、可调运行计时器
    配方存储 最多7个独立靶材的工艺配方
    监控功能 电弧率计数器、千瓦时计数器、时间限制
    通信接口 RS-232 (DB9)，模拟远程控制 (25-pin D-Sub)
    输入电源 100-240 VAC，50-60 Hz，单相
    外形尺寸 (高x宽x深) 1U标准机箱 (4.44 cm x 48.3 cm x 50 cm)
    重量 8.2 kg (18 lbs)
    安全认证 CE, NRTL
    保修政策 2年

  • KRI 直流 (DC) 溅射电源 产品优势：

    1. 空间效率：独特的1U紧凑设计，最大化设备空间利用率。

    2. 卓越的电弧控制：<100ns的超快检测与<1mJ的极低能量，最大限度减少工艺缺陷。

    3. 操作简便：宽阻抗范围无需切换变压器抽头，简化操作流程。

    4. 工艺灵活性：支持多配方存储和多种控制模式，轻松适应多靶材工艺。

  • KRI 直流 (DC) 溅射电源 应用领域：

    1. 金属及合金薄膜沉积（如Al, Cu, Ni, Ti, Mo等）

    2. 半导体金属布线及电极制备

    3. 光学反射膜与装饰涂层

    4. 一般导电功能薄膜

  • KRI 直流 (DC) 溅射电源 技术特点图：

    电弧抑制效果对比图：

    KRI 直流 (DC) 溅射电源

     

    功率范围示例图：

    KRI 直流 (DC) 溅射电源

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