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KRI的模块化电源
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KRI 脉冲直流溅射电源
产品描述
上海伯东代理 美国KRI 脉冲直流溅射电源, 是一款单输出、3000瓦的高性能电源，专为脉冲直流 与直流磁控溅射 工艺而设计。该电源能为磁控溅射靶材提供稳定可靠的动力，完美适用于对工艺控制要求极高的反应性溅射 与非反应性溅射 过程。
KRI直流溅射电源是一款高性能的1U紧凑型电源产品，专为 demanding 的溅射工艺设计。该产品提供高达1500W的稳定功率输出，工作范围覆盖0-1000V和0-4A，无需切换变压器抽头即可在1:7的宽阻抗范围内提供全额定功率。其核心优势在于极快的电弧检测与抑制能力（检测时间<100纳秒，能量<1mJ），能有效保护靶材和基片，减少颗粒污染，显著提升工艺稳定性和沉积膜层质量。产品支持配方存储与功率斜坡等功能，完美适用于从纯金属到复杂反应溅射的各种应用场景。
技术参数
产品优势
应用领域
典型工作示例与性能展示
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KRI 脉冲直流溅射电源 技术参数：
| 参数类别 |
详细规格 |
| 产品型号 |
Pulsed DC Sputter Power Supply |
| 输出功率 |
3000 Watt |
| 工作模式 |
脉冲直流 (Pulsed DC) / 直流 (DC) |
| 最大脉冲频率 |
高达 100 kHz |
| 输出电压范围 |
0 - 1000 V |
| 电弧检测速度 |
200 纳秒 |
| 可调参数 |
占空比， 电弧检测延迟， 重启关闭时间 |
| 监控功能 |
运行定时器， kWh计数器， 时间限制 |
| 通信接口 |
RS-232, 模拟接口 |
| 特色设计 |
宽范围输出，无需变压器抽头切换 |
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KRI 脉冲直流溅射电源 产品优势：
1. 极致电弧管理：拥有200纳秒 的超快电弧检测与熄灭能力，将电弧对工艺与膜层的损害降至最低。
2. 灵活工艺控制：脉冲频率高达100 kHz，且占空比、电弧延迟、重启时间均可灵活调节，满足多样化的工艺开发需求。
3. 操作简便高效：宽广的0–1000 V 工作范围，无需进行繁琐的变压器抽头切换，即可在全范围内高效运行。
4. 智能化监控：内置可调运行定时器、kWh电量计数与时间限制功能，便于工艺追溯与成本控制。
5. 无缝系统集成：标配RS-232 与模拟通信 接口，可轻松集成到自动化镀膜系统中。
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KRI 脉冲直流溅射电源 应用领域：
1. 光学镀膜（如AR/IR滤光片）
2. 工具硬质涂层（如TiN, CrN）
3. 半导体与微电子薄膜沉积
4. 平板显示与触摸屏导电膜制备
5. 太阳能电池电极镀膜
6. 大学与科研院所的新材料开发
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KRI 脉冲直流溅射电源 典型工作示例与性能展示：
1. 广泛的工艺兼容性
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电源在多种工艺下的应用：
金属溅射: Ni靶材与Ar气。
反应溅射: Al靶材与Ar/O₂混合气体。
掺杂材料溅射: Si掺杂靶材与Ar/O₂混合气体。
2. 宽广而稳定的功率输出
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使用同一3英寸Ni阴极在50W, 500W, 1000W, 1500W不同功率下的稳定放电等离子体状态，可见其全功率范围内的优异稳定性。
3. 清晰的输出特性曲线
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清晰展示500W, 1000W, 1500W三种型号电源的输出电压-电流关系，为工艺参数设定提供精确参考。
