美国 KRI 霍尔离子源 Gridless eH 系列

Ion source Gridless eH

上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 霍尔离子源 eH 系列属于宽束型离子源, 散射角度>45°.

霍尔离子源气体流量可选 2-25sccm/ 2-50sccm/ 2-50sccm/ 2-75sccm/ 5-100sccm 等不同级别.

霍尔离子源电流可选 5A/ 10A/ 12A/ 15A/ 20A 等.

霍尔离子源高浓度提高镀膜沉积速率, 低动能减少离子轰击损伤表面, 宽束设计有效提高吞吐量和覆盖沉积区.

整体易操作, 易维护. 霍尔离子源 eH 提供一套完整的方案包含离子源, 电子中和器, 电源供应器, 流量控制器 MFC 等等.

KRI 霍尔离子源 Gridless eH 系列在售型号及技术参数:

离子源型号	霍尔离子源 eH200(停产)	霍尔离子源 eH400 eH400LE	霍尔离子源 eH1000 eH1000LE eH1000LO	霍尔离子源 eH1000xO2	霍尔离子源 eH2000 eH2000LE eH2000HO	霍尔离子源 eH3000 eH3000LO eH3000MO
Cathode/Neutralizer	F or HC	F or HC	F or HC	F or HC	F or HC HC HC	HC
电压	30-300V	50-300V 30-150V	50-300V 30-150V 50-300V	100-300V	50-300V 30-150V 50-250V	50-250V 50-300V 50-250V
电流	2A	5A 10A	10A 12A 5A	10A	10A 15A 15A	20A 10A 15A
散射角度	>45	>45	>45	>45	>45	>45
可充其他	Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others
气体流量	1-15sccm	2-25sccm	2-50sccm	2-50sccm	2-75sccm	5-100sccm
高度	2.0“	3.0“	4.0“	4.0“	4.0“	6.0“
直径	2.5“	3.7“	5.7“	5.7“	5.7“	9.7“
水冷	无	可选	可选	可选	是	可选

F = Filament; HC = Hollow Cathode; xO2 = Optimized for O2 current

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