美国KRI LFN2000中和器发布日期：2026-01-28

产品概述：
KRI® LFN2000中和器是一款专为离子束中和设计的高性能装置，可为各类离子源产生的离子束提供长时间（＞100小时）稳定中和，有效消除离子束电荷，提升工艺稳定性和表面处理质量。该中和器系统包含中和器组件、AC放电控制器、发射控制器及相关馈通件，支持即插即用式维护，适用于离子束刻蚀、离子束辅助沉积、离子束清洗等高端工艺。

 

核心组成与特点：

  • 中和器组件：支持快速插拔维护，插座可永久安装于离子源

  • AC放电控制器：采用专利低频电路，体积小、重量轻，输出最大25A@40V

  • 发射控制器：直流偏置电源，输出最大2A@120V，控制发射电流

  • 标准配置：含气体与电气馈通、连接电缆、电气绝缘体

  • 可选配件：气体流量控制器，支持氩气流量控制（最大6 sccm）

 

应用领域：

  • 离子束刻蚀与清洗

  • 离子束辅助沉积（IBAD）

  • 离子束溅射镀膜

  • 半导体、光学镀膜、材料表面处理

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