美国KRI脉冲直流溅射电源发布日期：2026-01-28

KRI溅射电源是专为磁控溅射、反应溅射等真空镀膜工艺设计的高性能直流电源。采用紧凑的1U机架式设计，输出功率高达1500W，支持0–1000V电压和0–4A电流输出。具备先进的电弧检测与抑制技术（电弧能量＜1mJ），可大幅降低靶材与基板损伤，提升镀膜质量与工艺稳定性。电源支持电压、电流、功率三种调节模式，内置配方存储、运行计时、电弧计数等功能，适用于半导体、光学镀膜、工具涂层等高端应用。

 

核心特点：

  • 高性能输出：1500W全功率输出，阻抗范围宽（1:7），无需切换变压器抽头

  • 电弧抑制技术：＜100ns电弧检测，＜1mJ电弧能量，减少颗粒产生与靶材损伤

  • 多种控制模式：支持电压、电流、功率调节，可编程功率斜坡与运行计时

  • 智能功能：7组配方存储、电能计数、电弧率计数、远程控制（模拟/RS-232）

  • 紧凑设计：1U标准机架尺寸，适用于空间受限的系统集成

  • 安全认证：符合CE与NRTL标准，提供2年质保

 

应用领域：

  • 磁控溅射镀膜（金属、介质、反应溅射）

  • 光学薄膜制备

  • 工具与耐磨涂层

  • 半导体封装与薄膜沉积

  • 研发与中试镀膜系统

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