KRI 直流溅射电源 非脉冲&脉冲型发布日期：2026-01-28

KRI直流溅射电源系列包含非脉冲直流溅射电源与脉冲直流溅射电源两种类型，专为磁控溅射工艺设计，具备超高灵活性、紧凑结构及卓越的电弧抑制性能。非脉冲型号支持最高1500W输出，脉冲型号支持最高3000W输出，均提供0–1000V宽电压范围与可调输出电流。采用＜100–200ns超快电弧检测与≤1μs抑制技术，电弧能量极低，可有效保护靶材与基板，提升镀膜工艺的稳定性与薄膜质量。

 

核心型号与特点：

  • 脉冲直流溅射电源：最高3000W，支持可调反向电压（最高150V）、可变工作频率，适用于高功率脉冲磁控溅射

  • 非脉冲直流溅射电源：最高1500W，宽阻抗范围，适用于常规直流磁控溅射

  • 共同优势：超快电弧检测与抑制（＜1μs）、超低电弧能量、宽电压范围（0–1000V）、紧凑机架设计

 

应用领域：

  • 磁控溅射镀膜（金属、合金、反应溅射）

  • 光学薄膜、耐磨涂层、装饰镀膜

  • 半导体封装薄膜沉积

  • 研发与量产溅射系统

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