Atonarp 推出半导体排气监测用质谱分析仪 Aston™
上海伯东代理日本 Atonarp 推出半导体排气监测用质谱分析仪 Aston™
上海伯东日本 Atonarp 过程控制质谱仪 Aston™ 专为半导体生产而设计, 实现工艺过程控制, 作为一个强大的平台, Aston™ 可以取代多种传统工具, 提供半导体制程中 ALD, CVD, 蚀刻, ALE 和腔室在大批量生产中的气体侦测分析, 实现尾气在线监控, 诊断并在一系列应用中提供前所未有的控制水平, 适用于光刻, 电介质和导电蚀刻及沉积, 腔室清洁, 腔室匹配和消解.
Aston™ 质谱分析仪耐受腐蚀性气体和气化污染物冷凝液, 能够在半导体生产遇到的恶劣工况下可靠运行, 与传统质量分析仪相比, 使用 Aston™ 的维修间隔更长. 它包括自清洁功能, 可消除由于某些工艺中存在的冷凝物沉积而导致的污垢积累.
Aston™ 特性
实时过程控制的通用工具, 耐腐蚀性气体, 抗冷凝
半导体制造的分子分析原位平台, 提供实时, 可操作的数据
采用等离子体电离源, 无灯丝, 更耐用
可与大批量生产工具完全集成
Atonarp Aston™ 技术参数
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类型
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Impact-300
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Impact-300DP
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Plasma-200
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Plasma-200DP
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Plasma-300
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Plasma-300DP
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型号
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AST3007
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AST3006
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AST3005
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AST3004
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AST3003
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AST3002
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质量分离
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四级杆
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真空系统
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分子泵
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分子泵
隔膜泵
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分子泵
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分子泵
隔膜泵
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分子泵
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分子泵
隔膜泵
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检测器
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FC /SEM
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质量范围
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2-285
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2-220
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2-285
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分辨率
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0.8±0.2
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检测限
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0.1 PPM
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工作温度
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15-35“℃
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功率
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350 W
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重量
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15 kg
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尺寸
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299 x 218 x 331 LxWxH(mm)
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400 x 240 x 325 LxWxH(mm)
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Aston™ 质谱分析仪 CVD 典型应用: Dry pump 干泵排气在线监测,诊断
在恶劣的 CVD 环境中, Aston™ 利用可操作的数据预测和预防因 PV-CVD 干泵引起的灾难性故障, 能够对破坏性腐蚀或沉积进行预测建模, 优化氮气吹扫成本.
适用场景: 多个腔室连接到1个干泵, 高浓度的电介质会导致灾难性的泵故障 (一次损失 10-100 片的晶圆)
通过使用上海伯东 Atonarp 过程控制质谱仪 Aston™ 可以提高半导体制造工艺的产量, 吞吐量和效率, 此款质谱仪可以在新工艺腔室的组装过程中进行安装, 也可将其加装到已运行的现有腔室, 可在短时间内实现晶圆更高产量!
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