上海伯东 普发 Pfeiffer 氦质谱检漏仪脉冲激光沉积系统 PLD 检漏
Pfeiffer 氦质谱检漏仪脉冲激光沉积系统 PLD 检漏
脉冲激光沉积系统 PLD
脉冲激光沉积系统 Pulsed laser deposition 是制备高通量多晶薄膜, 外延薄膜和多层异质结构和超晶格结构的物理气相沉积设备, 通常需要保证本底真空度达到 10-8mbar, 同时高真空环境对系统配置的 RHEED 及温控系统等关键设备的寿命也至关重要.
脉冲激光沉积系统 PLD 需要检漏原因
PLD 系统需要高真空环境, 腔室是否有泄露, 是否有内部材料放气等因素对实现高真空及超高真空很关键. 因此需要对整个系统进行泄漏检测. 氦质谱检漏仪利用氦气作为示踪气体可精确定位, 定量漏点. 因此广泛应用于 PLD 设备检漏.
脉冲激光沉积系统 PLD 检漏客户案例: 上海伯东某客户 PLD 设备用来制备各种材料, 为了保证产品质量, 采购氦质谱检漏仪 ASM 340 搭配使用.
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生长多层膜（TiN/ALN）结构, 各层膜厚度可调
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高通量制备具有不同材料成分的100种材料
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PLD 制备的 Ag 的纳米多孔材料
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脉冲激光沉积系统 PLD 检漏方法
采用真空模式检漏, 通过波纹管连接需要检漏的腔体, 设定好需要的漏率值
在怀疑有漏的地方喷氦气（一般需要检漏的部位是焊缝或连接处）,如果有漏,检漏仪会出现声光报警同时在屏幕上显示当前漏率值.
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上海伯东推荐 Pfeiffer 氦质谱检漏仪 ASM 340 三种类型可选
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型号
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ASM 340 WET
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ASM 340 D
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ASM 340 I
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对氦气的最小检测漏率, 真空模式
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5E-13 Pa m3/s
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5E-13 Pa m3/s
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5E-13 Pa m3/s
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检测模式
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真空模式和吸枪模式
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真空模式和吸枪模式
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真空模式和吸枪模式
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检测气体
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4He, 3He, H2
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4He, 3He, H2
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4He, 3He, H2
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对氦气的抽气速度 l/s
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2.5
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2.5
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2.5
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进气口最大压力 hPa
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25
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25
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5
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前级泵抽速 m3/h
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油泵 15
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隔膜泵 3.4
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不含前级泵
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重量 kg
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56
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45
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32
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上海伯东是德国 普发 Pfeiffer 真空设备, 美国 KRI 考夫曼离子源, 日本 NS 离子蚀刻机, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 HVA 真空阀门, 美国 Gel-pak 芯片包装盒,比利时原装进 口 Europlasma 等离子表面处理机 , 日本 Atonarp过程质谱仪 和 美国 Ambrell 感应加热设备 等进口知名品牌的指定代理商 .我们真诚期待与您的合作!
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