离子注入工艺概述
腐蚀性气体环境 |
BF₃、PH₅等 |
工作压力范围 |
10⁻⁶ - 10⁻⁵ mbar |
响应时间要求 |
常规10秒 / 特殊场景<1s |
核心需求 |
可靠性 & 精确度 |
设备关键组件:
1. 高压模块
2. 质量分析狭缝
3. 偏转电极
4. 磁四极透镜组
5. 终端工作站
6. 放大磁体
7. 离子电极
8. 引出电压系统
9. 离子加速柱
10. 电子扫描系统
11. 样品台(基材)
12. 加速电压系统
图1:离子注入设备结构示意图及关键参数
当前半导体离子注入设备普遍面临以下技术挑战:
问题类型 |
传统电离规(Ion Gauge)缺陷 |
---|---|
稳定性缺陷 |
无法提供可靠精确的压力数据 |
腐蚀失效 |
沉积物堆积和气体腐蚀 |
设备成本 |
高额直接更换成本(传感器+停机损失) |
衍生风险 |
涡轮泵损坏/晶圆报废 |
DosiTorr SRG技术解决方案
核心技术优势
图1:SRG与电离规性能对比曲线
技术指标 |
DosiTorr SRG |
传统电离规 |
提升幅度 |
---|---|---|---|
测量精度 |
±1% (0.1-10⁻⁶ mbar) |
±10-20% |
10倍提升 |
长期稳定性 |
<1%/十年 |
>5%/周漂移 |
30倍改善 |
耐腐蚀性 |
316L不锈钢(1.4404) |
钨丝 |
寿命延长20倍 |
响应时间 |
1s(快模式) |
10-30s(气体吸附延迟) |
实时性提升 |
维护周期 |
磁悬浮设计(免维护) |
每月维护 |
成本降低90% |
典型应用场景
1. 离子源区域
a. 真实压力读数(含脱气数据)
b. 耐受强磁场/振动/高温环境
c. 电磁式真空连接(无物理馈通)
d. 模块化可清洁传感器
e. 工具生命周期配套设计
2. 晶圆终端站
a. 在线剂量控制系统校准
b. 非实时性场景替代方案
c. 避免破真空维护
d. 常温工作无电离效应
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