某光学镜片制造商为了使光学镜片的抛光刻蚀速率更快更准确, 抛光后的基材上获得更平坦, 获得均匀性更高的薄膜表面, 而采用伯东 KRI 考夫曼离子源 KDC 10 用于 IBF 离子束抛光工艺.
KRI 离子源 KDC 10 客户实际安装图如下：
客户基材: 100 mm 光学镜片
离子源条件: Vb: 800 V ( 离子束电压 ), Ib: 84 mA ( 离子束电流 ) , Va: -160 V ( 离子束加速电压 ), Ar gas ( 氩气 ).
Discharge: DC 热离子
离子束流: >10 mA
离子动能:100-1200 V
栅极直径:1 cm Φ
离子束:聚焦, 平行, 散射
流量:1-5 sccm
通气:Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型压力:< 0.5m Torr
长度:11.5 cm
直径:4 cm
中和器:灯丝
KRI 离子源 KDC 10 客户使用结果:
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离子束抛光前平坦度影像呈现图 |
离子束抛光后平坦度影像呈现图
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