伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 辅助镀制 OSR 膜层
某光学薄膜制造商为了提高光学太阳反射镜OSR的膜层附着力, 采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 在镀膜前清洗光学太阳反射镜OSR.
伯东 KRI考夫曼射频离子源 RFICP140 技术参数:
|
型号
|
RFICP 140
|
|
Discharge
|
RFICP 射频
|
|
离子束流
|
>600 mA
|
|
离子动能
|
100-1200 V
|
|
栅极直径
|
14 cm Φ
|
|
离子束
|
聚焦, 平行, 散射
|
|
流量
|
5-30 sccm
|
|
通气
|
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
|
|
典型压力
|
< 0.5m Torr
|
|
长度
|
24.6 cm
|
|
直径
|
24.6 cm
|
|
中和器
|
LFN 2000
|
推荐使用 KRI考夫曼射频离子源 RFICP140是因为其束流密度、能量可以精确控制, 工艺刚好符合客户要求.
其工艺流程为:
在原有的真空镀膜机上安装一台KRI考夫曼射频离子源 RFICP140, 产生离子束. 离子束清洗应用在镀膜沉积前, 利用离子束轰击基片, 溅射基片表面的污染物进行净化, 同时也对基片表面除气.
先将清洗干净的石英玻璃基片放入真空室,再将系统的真空度抽至低于 5·10-4Pa, 然后充入工作气体氩气保持 5min 后, 打开离子源进行清洗. 清洗完毕后再次将系统的真空度抽至低于 5·10-4Pa,充入氩气至 0.3Pa 进行溅射镀银.
为了保证真空室的真空度, 客户采用的是伯东Pfeiffer 涡轮分子泵 HiPace1800, 其参数如下：
|
分子泵型号
|
界面 DN
|
抽速 l/s
|
压缩比
|
最高启动压强mbar
|
极限压力
|
全转速气体流量hPa l/s
|
启动
时间
|
重量
|
|
进气
|
排气
|
氮气
N2
|
氦气He
|
氢气 H2
|
氮气
N2
|
氮气N2
|
hPa
|
氮气N2
|
min
|
kg
|
|
Hipace 1800
|
200
|
40
|
1,450
|
1,650
|
1,700
|
> 1X108
|
1.8
|
< 1X10–7
|
20
|
4
|
33 – 34
|
运行结果:
KRI考夫曼射频离子源 RFICP140可以对基片表面进行有效的清洁、活化的, 有利于改善膜层附着力
若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:
上海伯东: 罗先生 台湾伯东: 王女士
T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076 M: +886-939-653-958
www.hakuto-china.cn www.hakuto-vacuum.com.tw
伯东版权所有, 翻拷必究!
