KRI 考夫曼离子源应用案例发布日期：2020-11-10

伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 辅助镀制 OSR 膜层

某光学薄膜制造商为了提高光学太阳反射镜OSR的膜层附着力, 采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 在镀膜前清洗光学太阳反射镜OSR.

伯东 KRI考夫曼射频离子源 RFICP140 技术参数:

型号	RFICP 140
Discharge	RFICP 射频
离子束流	>600 mA
离子动能	100-1200 V
栅极直径	14 cm Φ
离子束	聚焦, 平行, 散射
流量	5-30 sccm
通气	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型压力	< 0.5m Torr
长度	24.6 cm
直径	24.6 cm
中和器	LFN 2000

推荐使用 KRI考夫曼射频离子源 RFICP140是因为其束流密度、能量可以精确控制, 工艺刚好符合客户要求.

其工艺流程为:

在原有的真空镀膜机上安装一台KRI考夫曼射频离子源 RFICP140, 产生离子束. 离子束清洗应用在镀膜沉积前, 利用离子束轰击基片, 溅射基片表面的污染物进行净化, 同时也对基片表面除气.

先将清洗干净的石英玻璃基片放入真空室,再将系统的真空度抽至低于 5·10-4Pa, 然后充入工作气体氩气保持 5min 后, 打开离子源进行清洗. 清洗完毕后再次将系统的真空度抽至低于 5·10-4Pa,充入氩气至 0.3Pa 进行溅射镀银.

为了保证真空室的真空度, 客户采用的是伯东Pfeiffer 涡轮分子泵 HiPace1800, 其参数如下：

分子泵型号	界面 DN		抽速 l/s			压缩比	最高启动压强mbar	极限压力	全转速气体流量hPa l/s	启动时间	重量
分子泵型号	进气	排气	氮气 N2	氦气He	氢气 H2	氮气 N2	氮气N2	hPa	氮气N2	min	kg
Hipace 1800	200	40	1,450	1,650	1,700	> 1X108	1.8	< 1X10–7	20	4	33 – 34

运行结果:

KRI考夫曼射频离子源 RFICP140可以对基片表面进行有效的清洁、活化的, 有利于改善膜层附着力

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