KRI 考夫曼离子源应用案例发布日期:2020-12-23

KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP380 溅射镀制 TC4 表面 TiN 涂层


武汉某大学研究中心为了改善 TC4 表面性能, 采用KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP380溅射镀制 TC4 表面 TiN 涂层,  提高钛合金表面耐磨耐腐蚀性能, 提高高温抗氧性能.

 

伯东 KRI 射频离子源 RFICP380 技术参数:

射频离子源型号

RFICP380

Discharge 阳极

射频 RFICP

离子束流

>1500 mA

离子动能

100-1200 V

栅极直径

30 cm Φ

离子束

聚焦平行散射

流量

15-50 sccm

通气

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型压力

< 0.5m Torr

长度

39 cm

直径

59 cm

中和器

LFN 2000

 KRI 考夫曼离子源 RFICP 380

客户采用 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP380 产生离子束不断轰击源极靶材和工件, 工件在离子束轰击下迅速被加热至高温, 源极靶材在轰击作用下溅射出的合金元素不断奔向工件表面, 经沉积扩散过程形成一定厚度的涂层.

 

运行结果:

1. 具有沉积薄膜速度快, 厚度容易控制等特点

2. 涂层的SEM形貌观测显示涂层均匀, 致密, 无明显孔洞缺陷, 涂层厚度约为10um, 过度层厚度约为3um.

3. 涂层的力学性能及磨损性能分析显示, 涂层的临界载荷达到81.75N, 远远满足工程要求, 涂层与基体结合良好.

4. 在高温(500℃)下, TiN的摩擦系数更稳定.

 

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