兰州某研究所在研究 BCx 薄膜的结构特征、力学性能和摩擦磨损性能试验中采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 作为溅射源, 溅射碳化硼靶和石墨靶（纯度均为99.9%）,在 CrMoAl 齿轮钢和 Si（100）表面沉积 BCx 薄膜
伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 技术参数:
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型号 |
RFICP140 |
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Discharge |
RFICP 射频 |
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离子束流 |
>600 mA |
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离子动能 |
100-1200 V |
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栅极直径 |
14 cm Φ |
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离子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
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流量 |
5-30 sccm |
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通气 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型压力 |
< 0.5m Torr |
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长度 |
24.6 cm |
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直径 |
24.6 cm |
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中和器 |
LFN 2000 |
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试验结论:
相同的沉积时间内, BCx 薄膜的厚度随石墨靶电流的增加逐渐增大, 硬度、弹性模量逐渐降低,微观形貌的柱状结构特征越来越明显;增加石墨靶电流可以提高BCx薄膜的摩擦学性能, 当石墨靶电流为 2.4A 时, BCx 薄膜的摩擦因数稳定在 0.2 左右, 且具有最佳的耐磨性能。
KRI 离子源的独特功能实现了更好的性能, 增强的可靠性和新颖的材料工艺. KRI 离子源已经获得了理想的薄膜和表面特性, 而这些特性在不使用 KRI 离子源技术的情况下是无法实现的.
KRI 离子源是领域公认的领导者. KRI 离子源已应用于许多已成为行业标准的过程中.
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