KRI 考夫曼离子源应用案例发布日期：2020-11-16

伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP 380 辅助溅射镀制 Al2O3 薄膜

氧化物薄膜具有优越的机械、光学性能以及良好的环境稳定性, 被广泛应用于可见近红外波段制备各种低损耗光学薄膜.

某国内精密光学薄膜制造商为了获得品质良好的Al₂O₃ 薄膜, 采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 FRICP380 和考夫曼离子源 KDC100 辅助溅射镀制 Al₂O₃ 薄膜.

伯东 KRI 射频离子源 RFICP380 技术参数:

射频离子源型号	RFICP380
Discharge 阳极	射频 RFICP
离子束流	>1500 mA
离子动能	100-1200 V
栅极直径	30 cm Φ
离子束	聚焦, 平行, 散射
流量	15-50 sccm
通气	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型压力	< 0.5m Torr
长度	39 cm
直径	59 cm
中和器	LFN 2000

工艺简介:

该制造商采用双离子辅助镀制 Al₂O₃ 薄膜, 其中一个离子源（KRI 考夫曼射频离子源 FRICP380）主要是用于产生高能氩离子束轰击靶材, 通过动量传递使靶材原子获得足够的动能而脱离靶材表面, 射向基板, 在基板的上沉积而形成一层薄膜;

另一个辅助离子源（KRI 考夫曼离子源 KDC100）通入氧气和氩气的混合气体, 通过对生长中的薄膜的轰击, 使得薄膜进一步致密, 同时改善薄膜的化学计量比.

伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 100 技术参数：

离子源型号	离子源 KDC 100
Discharge	DC 热离子
离子束流	>400 mA
离子动能	100-1200 V
栅极直径	12 cm Φ
离子束	聚焦, 平行, 散射
流量	2-20 sccm
通气	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型压力	< 0.5m Torr
长度	23.5 cm
直径	19.4 cm
中和器	灯丝

* 可选: 可调角度的支架

其工作示意图如下:

运行结果:

1. 制备的薄膜在中红外波段具有高的折射率和低的消光系数, 光滑的表面特性和极低的表面散射耗损, 在2.7μm波段没有发现由于水吸收导致的消光系数的增大；

2. 制备的反射膜在2.7 μm反射率达到了99.63%, 接近于理论计算值；

3. 镀制的Al2O3 薄膜具有优良的环境稳定性.

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