KRI 考夫曼离子源应用案例发布日期:2020-12-29

KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 应用于 AlTiN 涂层研究


四川某大学实验室研究靶电流, 偏压、沉积时间等各试验工艺参数对两组试样 AlTiN 涂层力学性能的影响, 旨在找出能够镀制优良性能涂层的最佳工艺方案的项目中采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 作为溅射源.

 

伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 技术参数:

型号

RFICP140

Discharge

RFICP 射频

离子束流

>600 mA

离子动能

100-1200 V

栅极直径

14 cm Φ

离子束

聚焦平行散射

流量

5-30 sccm

通气

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型压力

< 0.5m Torr

长度

24.6 cm

直径

24.6 cm

中和器

LFN 2000

 

AlTiN 涂层具有高抗氧化性, 良好热硬性, 摩擦系数低, 与基体之间结合力强, 耐磨性强等优点. 因此AlTiN涂层在机械加工行业,尤其是在刀具领域,一直是研究的热点.

 

KRI 离子源的独特功能实现了更好的性能, 增强的可靠性和新颖的材料工艺. KRI 离子源已经获得了理想的薄膜和表面特性, 而这些特性在不使用 KRI 离子源技术的情况下是无法实现的.

 

KRI 离子源是领域公认的领导者. KRI 离子源已应用于许多已成为行业标准的过程中.

 

上海伯东是日本  NS 离子蚀刻机, 美国  KRI 考夫曼离子源,  德国 ph-instruments 磁悬浮转子真空计, 德国 普发 Pfeiffer  真空设备, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国  HVA 真空阀门, 美国  Gel-pak 芯片包装盒,比利时原装进 口 Europlasma 等离子表面处理机 ,  和  美国 Ambrell 感应加热设备 等进口知名品牌的指定代理商 .我们真诚期待与您的合作!

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