伯东 KRI 考夫曼霍尔离子源 eH 3000用于玻璃基片清洗
无论是何种膜系结构, 玻璃基片表面的清洁程度和表面状态将直接影响所镀膜层的质量, 如薄膜的附着力/ 粗糙度以及薄膜的物理性能与机械强度.
但在放置和传输过程中会对玻璃基片表面难以避免地出现不明污染物, 失去 "新鲜表面" 形成钝化层, 甚至可视痕迹. 对于低辐射玻璃而言, 在瑕疵处生长的银膜会在后续钢化及热弯过程中形成团聚, 导致透光性能与低辐射性能严重恶化, 镀膜产品报废,降低成品率.
因此, 国内某玻璃制造商采用伯东 KRI 考夫曼霍尔离子源 eH 3000 在玻璃基片传输后/ 镀膜前进行在线基片表面处理工序.
KRI 霍尔离子源 Gridless eH 3000 技术参数:
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离子源型号
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霍尔离子源
eH3000
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Cathode/Neutralizer
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HC
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电压
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50-250V
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电流
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20A
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散射角度
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>45
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可充气体
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Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others
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气体流量
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5-100sccm
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高度
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6.0“
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直径
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9.7“
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水冷
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可选
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F = Filament; HC = Hollow Cathode; xO2 = Optimized for O2 current
该制造商采用 KRI 霍尔离子源 Gridless eH 3000离子源解离 Ar 气体,轰击玻璃表面,对玻璃基片表面进行清洗和刻蚀.
推荐理由：
设备稳定,抗污染能力强,可以进行基片表面清洗与辅助沉积, KRI 霍尔离子源 Gridless eH 3000 对玻璃基片表面有效去除二次污染/ 增加基片表面能/ 控制基片表面粗糙度.
运行结果:
- KRI 霍尔离子源 Gridless eH 3000能有效去除二次污染,
- 对玻璃基片有效清洗清洗和刻蚀, 获得更清洁/ 平滑的玻璃基片表面
- 提高了所镀膜层的质量,提高薄膜的附着力, 改善薄膜粗糙度以及薄膜的物理性能与机械强度
- 降低了镀膜产品报废,提高了成品率
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上海伯东: 罗先生 台湾伯东: 王女士
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