KRI 考夫曼离子源应用案例发布日期:2020-10-30

伯东 KRI 考夫曼射频离子源在 PCB 钻头铣刀上的应用


电子工业的飞速发展对线路板制造业的要求越来越高, 线路板层数越来越高, 孔密越来越大并向微孔化不断发展, 某国内制造商为了铣刀进行铣边及成型加工时, 减少产品的披锋、毛刺及铣刀断刀, 采用伯东 KRI 考夫曼聚焦型射频离子源 RFICP 380辅助钻头铣刀上镀膜.

 

该制造商的真空离子镀膜技术, 利用 KRI 考夫曼聚焦型射频离子源 RFICP 380 轰击靶材形成离子, 并使离子在强磁场的驱动下吸附于钻头或锣刀上形成镀层, 制备出镀膜钻头及镀膜铣刀.

用于溅射的 KRI 聚焦型射频离子源 RFICP 380 技术参数:

射频离子源型号

RFICP 380

Discharge 阳极

射频 RFICP

离子束流

>1500 mA

离子动能

100-1200 V

栅极直径

30 cm Φ

离子束

聚焦

流量

15-50 sccm

通气

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型压力

< 0.5m Torr

长度

39 cm

直径

59 cm

中和器

LFN 2000

 

推荐理由:

聚焦型溅射离子源一方面可以增加束流密度, 提高溅射率; 另一方面减小离子束的散射面积, 减少散射的离子溅射在靶材以外的地方引起污染

 

运行结果:

  1. 结果表面, 采用镀膜钻头, 可以明显增加钻孔孔限, 减少披锋, 节约成本;
  2. 采用镀膜铣刀进行铣边及成型加工时, 有利于减少产品的披锋、毛刺及铣刀断刀, 提高生产效率及节约成本
 

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