硅在常温下性质稳定、红外透明区宽、透明度好, 所形成的的硅薄膜质硬、红外区折射率高, 是一种较为理想的红外光学薄膜材料, 非晶硅作为一种高折射率材料, 因此非晶硅薄膜广泛运用于红外和激光技术中.
而影响非晶薄膜光学的主要工艺因素是沉积速率和基底温度, 其次工作真空度的影响, 当沉积速率和基底温度升高时, 薄膜的折射率先增大后减小, 当工作真空度升高时, 薄膜的折射率增大.
KRI 离子源用于辅助沉积非晶硅红外光学薄膜
某国内光学薄膜制造商为了加快镀膜沉积速率和获得工作真空度, 并保持沉积速率和稳定真空度, 该制造通过与伯东工程师进行深入讨论, 伯东工程师为其推荐美国 KRI射频离子源 RFICP 380和分子泵 Hipace 700.
美国 KRI 射频离子源 RFICP 380 特性:
1. 大面积射频离子源
2. 提供高密度离子束, 满足高工艺需求
3. 采用射频技术产生离子, 无需电离灯丝, 工艺时间更长, 更适合时间长的工艺要求
4. 离子束流: >1500 mA
5. 离子动能: 100-1200 V
6. 中和器: LFN 2000
7. 采用自动控制器, 一键自动匹配
8. RF Generator 可根据工艺自行选择离子浓度, EX: 1kW or 2kW
9. 离子源采用模块化设计, 方便清洁/ 保养/ 维修/ 安装
10. 栅极材质钼和石墨, 坚固耐用
11. 通入气体可选 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others
为了获得更好的膜层, 离子源辅助镀膜需要在真空环境下进行, 因此镀膜腔体需要将真空度抽至8x10-5 Pa, 该光学薄膜制造商采用普发 Pfeiffer 分子泵 Hipace 700 对镀膜腔体进行抽真空.
涡轮分子泵 Hipace 700产品优势:
1.结构紧凑但功能强大的涡轮泵, 用于 N2 时的最高抽速可达 685 l/s
2.最佳真空性能, 最低功耗
3.集成的带 Profibus 的驱动电子装置 TC 400
4.可在任何方向安装
5.带有集成型水冷系统以保证最大气体流量
6.通过 M12 插接头的 Profibus 连接
7.广泛的配件扩展使用范围
用伯东美国 KRI 离子源用于辅助沉积非晶硅红外光学薄膜, 其光学性能和机械性能均较优异, 增强其耐久性, 完全满足一般红外光学系统的要求, 且可以制备大面积均匀的膜层, 达到共赢生产规模.
上海伯东是日本 NS 离子蚀刻机, 美国 KRI 考夫曼离子源, 德国 ph-instruments 磁悬浮转子真空计, 德国 普发 Pfeiffer 真空设备, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 HVA 真空阀门, 美国 Gel-pak 芯片包装盒,比利时原装进 口 Europlasma 等离子表面处理机 , 和 美国 Ambrell 感应加热设备 等进口知名品牌的指定代理商 .我们真诚期待与您的合作!
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