KRI Discharge chamber 放电腔 | 美国 KRI 离子源配件

KRI Discharge Chamber

产品描述

美国 KRI 离子源 Discharge Chamber 放电腔,是离子源产生等离子体的核心腔体,工艺气体在腔体内被射频能量电离形成等离子体,为离子束引出提供离子。适用于离子束刻蚀、IAD 离子辅助沉积、基板清洗等工艺。

上海伯东供应原厂替换腔体备件。

  • 产品优势
  • 技术参数
  • KRI Discharge chamber 放电腔 | 美国 KRI 离子源配件 产品优势:

    原厂精密加工腔体,等离子体激发稳定,电离均匀

    耐等离子体腐蚀,低放气,适配高真空工艺环境

    适配 RFICP220 大束流离子源,支持长时间连续工艺

    拆装便捷,可直接替换旧腔体,减少停机维护时间

  • KRI Discharge chamber 放电腔 | 美国 KRI 离子源配件 技术参数:

    品牌:KRI

    英文名称:Discharge Chamber

    适配:RFICP220 射频离子源

    功能:等离子体电离、放电发生

    适用工艺:离子束刻蚀、离子辅助沉积、表面预处理

CONTACT

您好, 我们的联络方式:
电话: +86-21-5046-1322
地址: 上海市浦东新区新金桥路1888号36号楼7楼702室 201206

PRODUCTS 产品菜单

DOWNLOAD

查看其他产品

最近浏览过的页面

在线谘询

谘询

电话

微信

微信

TOP