KRI Discharge chamber 放电腔
美国 KRI 离子源 Discharge Chamber 放电腔,是离子源产生等离子体的核心腔体,工艺气体在腔体内被射频能量电离形成等离子体,为离子束引出提供离子。适用于离子束刻蚀、IAD 离子辅助沉积、基板清洗等工艺。
上海伯东供应原厂替换腔体备件。
原厂精密加工腔体,等离子体激发稳定,电离均匀
耐等离子体腐蚀,低放气,适配高真空工艺环境
适配 RFICP220 大束流离子源,支持长时间连续工艺
拆装便捷,可直接替换旧腔体,减少停机维护时间
品牌:KRI
英文名称:Discharge Chamber
适配:RFICP220 射频离子源
功能:等离子体电离、放电发生
适用工艺:离子束刻蚀、离子辅助沉积、表面预处理
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