KRI 考夫曼离子源应用案例发布日期:2020-10-28

伯东 KRI 考夫曼射频离子源用于纯钛表面氨基化改性的研究


某机构为了研究离子源处理纯钛材料表面的时间长短对纯钛材料表面生物活性及亲水性的影响, 采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP 380 用于纯钛表面氨基化改性的研究.

 

试验样品: 8mm X 8mm的厚度 1 mmde  TA2型纯钛线

 

试验流量简介: 通过对试验样品进行刻蚀时间长短不同形成不同的清洁表面, 然后通过仪器分析其亲水性

 

用于刻蚀的 KRI 考夫曼聚焦型射频离子源 RFICP 380 技术参数:

射频离子源型号

RFICP 380

Discharge 阳极

射频 RFICP

离子束流

>1500 mA

离子动能

100-1200 V

栅极直径

30 cm Φ

离子束

聚焦

流量

15-50 sccm

通气

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型压力

< 0.5m Torr

长度

39 cm

直径

59 cm

中和器

LFN 2000

推荐理由:

使用 KRI 考夫曼聚焦型射频离子源 RFICP 380 可以准确、灵活地对样品选定的区域进行刻蚀

 

试验结论:

N2 NH3 的混合气体射频离子源处理纯钛表面, 可以在表面引入氨基, 但处理时间并不是越长越好, 改性后的钛片表面的亲水性得到较大的提高, 但随放置时间的增加其表面亲水性会变差, 5h, 改性钛片保存在氮气气氛中有利于保持其亲水性.

 

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