伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 用于清洗继电器
电子元器件-继电器在生产过程中由于手印、焊剂、交叉污染、自然氧化等, 其表面会形成各种玷污, 影响电子元器件在生产过程中的相关工艺质量, 例如继电器的接触电阻, 从而降低了电子元器件的可靠性和成品合格率.
某制造商为了提高电子元器件-继电器的可靠性和成品合格率, 采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 对继电器进行离子束清洗.
伯东 KRI考夫曼射频离子源 RFICP140 技术参数:
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型号
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RFICP 140
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Discharge
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RFICP 射频
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离子束流
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>600 mA
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离子动能
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100-1200 V
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栅极直径
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14 cm Φ
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离子束
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聚焦, 平行, 散射
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流量
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5-30 sccm
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通气
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Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
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典型压力
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< 0.5m Torr
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长度
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24.6 cm
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直径
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24.6 cm
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中和器
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LFN 2000
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该制造商通入氩气, 利用 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 电离氩气产生氩离子, 形成氩离子束对样品进行轰击, 以溅射刻蚀, 从而达到清洗的效果.
氩离子优点是不会产生氧化副产物, 可以保持被清洗物的化学纯净性.
运行结果：
通过清洗前后接触电阻测试记录可以看出, 清洗后不合格产品数大幅降低, 因此采用KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140清洗可以有效地降低继电器的接触电阻, 从而提高产品的合格率.
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