KRI 霍尔离子源 EH5000F用于大尺寸光学蒸镀机
随着市场需求, 无论在于太阳眼镜光学镀膜 (AR coating), 智能型手机照相镜头 (Lens coating) 镀膜质量及效率都必须提高.
为了提高镀膜质量和生产效率, 镀膜制造商一般会选择离子源进行辅助镀膜, 有利于:
1. 填充密度提高: 折射率提高
2. 波长漂移减少
3. 红外波段的水气吸收减少
4. 增强了膜层的结合力、耐摩擦能力, 机械强度, 提高表面光洁度
5. 控制膜层的应力
6. 减少膜层的吸收和散射
7. 提高生产效率
伯东公司代理的美国考夫曼公司 KRI 霍尔离子源EH5000F 已成功应用于光学镀膜中必须的辅助镀膜应用, 使得大尺寸光学镀膜机生产过程获得高生产良率.
KRI 霍尔离子源 EH5000F优点:
1. 高离子浓度 (High density), 低能量 (Low energy)
2. 离子束涵盖面积广 (high ion beam sharp)
3. 镀膜均匀性佳
4. 提高镀膜品质
5. 模块化设计,保养快速方便
6. 增加光学膜后折射率 (Optical index)
7. 全自动控制设计,超做简易
8. 低耗材成本
9. 安装简易
伯东公司为 Kaufman & Robinson, Inc (KRi) 美国考夫曼公司大中华总代理.
离子源发明人 Dr. Kaufman 考夫曼博士于1978年考夫曼博士在美国自行创立 Kaufman & Robinson, Inc. (KRi) 公司并历经30年离子源之改良及研发, 目前已在光学镀膜 (Optical coating), IBAD (离子源助镀), IBSD (离子溅镀), IBE (离子刻蚀), DD (离子镀膜) 等等应用领域大量使用.
上海伯东是日本 NS 离子蚀刻机, 美国 KRI 考夫曼离子源, 德国 ph-instruments 磁悬浮转子真空计, 德国 普发 Pfeiffer 真空设备, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 HVA 真空阀门, 美国 Gel-pak 芯片包装盒,比利时原装进 口 Europlasma 等离子表面处理机 , 和 美国 Ambrell 感应加热设备 等进口知名品牌的指定代理商 .我们真诚期待与您的合作!
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