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• ATH 4506 M/MT 涡轮分子真空泵 | 普发 Pfeiffe

  

  型号：ATH 4506 M / MT

  进气口法兰：VG350 或 VG400

  排气口法兰：DN40 或 DN50

  输入功率选项：200V、440V、480V AC

  控制器：机载控制器

  转速：可调转速

  启动时间：从启动到90%最终转速的时间（排放压力 < 0.1 mbar）

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• 涡轮分子泵 HiPace 300-800M，ATH 500 M | 普发 Pfeiffer

  

  上海伯东德国普发 Pfeiffer 磁悬浮涡轮分子泵 HiPace 300-800M, ATH 500 M: 抽速范围在300-800l/s的紧凑型磁悬浮涡轮分子泵. HiPace M和ATH 500 M拥有5轴磁轴承. 动平衡装置会进行自动校准, Pfeiffer磁悬浮涡轮分子泵可以最小程度上减轻震动和工艺过程中产生的轴承位移. 低能耗和极低的维护成本确保了其极高的性价比. 

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• 磁悬浮涡轮分子泵 ATH 500 M | 普发 Pfeiffer

  

  普发 Pfeiffer 全磁浮涡轮分子泵 ATH 500 M, 对氮气的抽速最高可达 550 l/s, 紧凑集成的全磁浮涡轮分子泵控制器. 全磁浮涡轮分子泵可以安装在任何方向. CE标志和通过无铅认证. 全磁浮涡轮分子泵核心科技是五轴控制全磁浮轴承, 免维护, 无需润滑, 保证全磁浮涡轮分子泵内部绝对清洁无油. 全磁浮轴承保证了转子的稳定性, 在高速运转过程中无摩擦, 无磨损, 低噪音低振动, 可延长分子泵的使用寿命.

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• 磁悬浮涡轮分子泵 ATH 1600 MT | 普发 Pfeiffer

  

  普发 Pfeiffer 全磁浮涡轮分子泵 ATH 1600 MT, 对氮气的抽速最高可达 1360 l/s, 水冷, 可加热抗腐蚀. 外部分子泵驱动电路. 全磁浮涡轮分子泵可以安装在任何方向. CE标志和通过无铅认证. 全磁浮涡轮分子泵核心科技是五轴控制全磁浮轴承, 免维护, 无需润滑, 保证分子泵内部绝对清洁无油. 全磁浮轴承保证了转子的稳定性, 在高速运转过程中无摩擦, 无磨损, 低噪音低振动, 可延长分子泵的使用寿命.

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• 磁悬浮涡轮分子泵 ATH-M / ATP-M | 普发 Pfeiffer

  

  上海伯东德国普发 Pfeiffer 磁悬浮涡轮分子泵 ATH 1600-3200M, ATP 2300M: 抽速范围在1400-2800l/s的磁悬浮涡轮分子泵. ATH 系列磁悬浮分子泵拥有5轴磁轴承监测系统和实时的转子位移自动修正功能确保长时间的稳定性和可靠性, 同时运行时也非常安静. 磁悬浮涡轮分子泵 ATH 系列广泛应用于半导体/ 镀膜和离子刻蚀等行业.

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• 磁悬浮涡轮分子泵 ATH 1603 M | 普发 Pfeiffer

  

  德国普发 Pfeiffer 全磁浮涡轮分子泵 ATH 1603 M, 对氮气的抽速最高可达 1400 l/s, 水冷. 外部分子泵驱动电路. 全磁浮涡轮分子泵可以安装在任何方向. CE标志和通过无铅认证. 全磁浮涡轮分子泵核心科技是五轴控制全磁浮轴承, 免维护, 无需润滑, 保证分子泵内部绝对清洁无油. 全磁浮轴承保证了转子的稳定性, 在高速运转过程中无摩擦, 无磨损, 低噪音低振动, 可延长分子泵的使用寿命.

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• 磁悬浮涡轮分子泵 ATH 2300 M | 普发 Pfeiffer

  

  上海伯东 Adixen by Pfeiffer 全磁浮涡轮分子泵 ATH 2300 M, 对氮气的抽速最高可达 2150 l/s, 极限真空 < 6X10-9 hPa, 集成分子泵控制器 OBC 或外部 Magpower 控制器. 全磁浮涡轮分子泵核心科技是 Holweck 五轴控制全磁浮轴承, 免维护, 无需润滑, 保证分子泵内部绝对清洁无油. 全磁浮轴承保证了转子的稳定性, 在高速运转过程中无摩擦, 无磨损, 低噪音低振动, 可延长分子泵的使用寿命.

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• 磁悬浮涡轮分子泵 ATH 2804 M | 普发 Pfeiffer

  

  全磁浮涡轮分子泵 ATH 2804 M, 对氮气的抽速最高可达 2350 l/s, 水冷. 外部分子泵驱动电路. 全磁浮涡轮分子泵可以安装在任何方向. CE标志和通过无铅认证. 全磁浮涡轮分子泵核心科技是五轴控制全磁浮轴承, 免维护, 无需润滑, 保证分子泵内部绝对清洁无油. 全磁浮轴承保证了转子的稳定性, 在高速运转过程中无摩擦, 无磨损, 低噪音低振动, 可延长分子泵的使用寿命.

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• 磁悬浮涡轮分子泵 ATH 3204 M | 普发 Pfeiffer

  

  普发 Pfeiffer 全磁浮涡轮分子泵 ATH 3204 M, 对氮气的抽速最高可达 2800 l/s, 水冷. 外部分子泵驱动电路. 全磁浮涡轮分子泵可以安装在任何方向. CE标志和通过无铅认证. 全磁浮涡轮分子泵核心科技是五轴控制全磁浮轴承, 免维护, 无需润滑, 保证分子泵内部绝对清洁无油. 全磁浮轴承保证了转子的稳定性, 在高速运转过程中无摩擦, 无磨损, 低噪音低振动, 可延长分子泵的使用寿命.

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• 涡轮分子泵 ATH 400M | Adixen Alcatel 阿尔卡特

  

  型号	ATH 400M	ATH 400MT
  进口法兰	100 ISO-K	160 ISO-K
  转速	39000

   

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• 涡轮分子泵 ATH 500M | Adixen Alcatel 阿尔卡特

  

  型号	ATH 500M	ATH 500MT
  转速	50000rpm	50000rpm
  进口法兰	DN100	DN160

   

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• 涡轮分子泵 ATH1000M | Adixen Alcatel 阿尔卡特

  

  型号	ATH 1000M	ATH 1000MT
  进口法兰	160 ISO-K	200 ISO-K
  转速	33000	30000

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• 涡轮分子泵 ATH 1300M | Adixen Alcatel 阿尔卡特

  

  型号	ATH 1300M
  进口法兰	DN 200 ISO-F
  转速	34000

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• 涡轮分子泵 ATH 1600M | Adixen Alcatel 阿尔卡特

  

  型号	ATH 1600M
  进口法兰	DN 200 ISO-F
  转速	39000

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• 涡轮分子泵 ATH 1603M | Adixen Alcatel 阿尔卡特

  

  型号	ATH 1603M
  进口法兰	200 ISO-F
  模式	水冷

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• 涡轮分子泵 ATH 2300M | Adixen Alcatel 阿尔卡特

  

  型号	ATH 2300M
  进口法兰	DN 250 ISO-F
  转速	31000

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• 涡轮分子泵 ATH 2303M | Adixen Alcatel 阿尔卡特

  

  型号	ATH 1603M
  进口法兰	200 ISO-F
  模式	水冷

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• 涡轮分子泵 ATH 2800M | Adixen Alcatel 阿尔卡特

  

  型号	ATH 2800M
  轴承	五轴控制全磁浮轴承
  转速	25000  min-1

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• 涡轮分子泵 ATH 3200M | Adixen Alcatel 阿尔卡特

  

  型号	ATH 3200M
  轴承	五轴控制全磁浮轴承
  转速	25000  min-1

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• 美国 KRI 霍尔离子源 Gridless eH 系列

  

  上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 霍尔离子源 eH 系列属于宽束型离子源, 散射角度>45°.

  霍尔离子源气体流量可选 2-25sccm/ 2-50sccm/ 2-50sccm/ 2-75sccm/ 5-100sccm 等不同级别.

  霍尔离子源电流可选 5A/ 10A/ 12A/ 15A/ 20A 等.

  霍尔离子源高浓度提高镀膜沉积速率, 低动能减少离子轰击损伤表面, 宽束设计有效提高吞吐量和覆盖沉积区.

  整体易操作, 易维护. 霍尔离子源 eH 提供一套完整的方案包含离子源, 电子中和器, 电源供应器, 流量控制器 MFC 等等.

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• 美国 KRI 霍尔离子源 eH 3000

  

  上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 霍尔离子源 eH 3000 最适合大型真空系统, 与友厂大功率离子源对比, 霍尔离子源 eH 3000 是目前市场上最高效, 提供最高离子束流的无栅网离子源.

  尺寸: 直径= 9.7“ 高= 6”

  放电电压 / 电流: 50-300V / 20A

  操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体

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• 美国 KRI 霍尔离子源 eH 400

  

  上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 霍尔离子源 eH 400 低成本设计提供高离子电流, 霍尔离子源 eH 400 尺寸和离子能量特别适合中小型的真空系统, 可以控制较低的离子能量, 通常应用于离子辅助镀膜, 预清洗和低能量离子蚀刻.

  尺寸: 直径= 3.7“  高= 3”

  放电电压 / 电流: 50-300eV / 5a

  操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体

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• 便携式氦质谱检漏仪 ASM 310 | 普发 pfeiffer

  

  便携式干式氦质谱检漏仪, 重量仅 21 kg, 通用电压

  检漏模式	最小漏率 Pa m3/s	氦气抽速 l/s	前级泵抽速 m3/h	进气口最大压力 hPa
  真空 / 吸枪	5E-13	1.1	1.7	15

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• 美国 KRI 霍尔离子源 eH 2000

  

  上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 霍尔离子源 eH 2000 特别适合大中型真空系统, 带有水冷方式, 低成本设计提供高离子电流. 通常应用于离子辅助镀膜, 预清洗和低能量离子蚀刻.

  尺寸: 直径= 5.7“ 高= 5.5”

  放电电压 / 电流: 50-300V / 10A 或 15A

  操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体

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• 美国 KRI 霍尔离子源 eH 1000

  

  上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 霍尔离子源 eH 1000 气体高效利用, 低成本设计提供高离子电流, 特别适合中型真空系统. 属于无栅网离子源. 通常应用于离子辅助镀膜, 预清洗和低能量离子蚀刻.

  尺寸: 直径= 5.7“ 高= 5.5”

  放电电压 / 电流: 50-300V / 10A

  操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体

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• 美国 KRI 线性霍尔离子源 eH Linear

  

  上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 线性离子源.

  KRI 线性离子源使用标准的端部霍尔模组并使设备的需求简化, 一个低成本, 高电流和低能量的离子束可以很好的使用于 web 涂层, in-line 沉积和圆柱旋转溅射系统.

  尺寸: 直径= 3.7“ 高= 3”

  放电电压 / 电流: 50-300eV / 5A

  操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体

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应用案例搜寻结果

依据您输入的关键字：ath产生应用案例搜寻结果，共18笔

• 上海伯东 普发真空Pfeiffer 在EUV光刻中的真空解决方案

  2026-04-22

  阅读数：309

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• KRI 离子源技术革新：薄膜沉积与表面处理的完美解决方案

  2026-03-18

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• 上海伯东提供适用于薄膜太阳能电池生产的离子源和真空系统

  2023-10-20

  阅读数：1069

  KRI 考夫曼离子源应用案例

• KRI 霍尔离子源应用于黑膜镀制

  2023-09-26

  阅读数：1056

  KRI 考夫曼离子源应用案例

• 美国 KRi 霍尔离子源辅助镀膜 IBAD 应用

  2023-03-22

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  KRI 考夫曼离子源应用案例

• KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 成功用于多靶磁控溅射镀膜机

  2021-01-22

  阅读数：1193

  KRI 考夫曼离子源应用案例

• 伯东 KRI 考夫曼霍尔离子源 eH 3000用于玻璃基片清洗

  2020-11-02

  阅读数：1368

  KRI 考夫曼离子源应用案例

• 伯东 KRI 无栅霍尔离子源 eH 3000 辅助镀制高质量光学薄膜

  2020-10-22

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• 伯东 KRI 考夫曼霍尔离子源 eh 3000 用于清洗 PPS/ PEEK 衬底面

  2020-10-13

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• 伯东 KRI 聚焦型射频离子源辅助磁控溅射沉积氧化铟锡 ITO 薄膜

  2020-09-30

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• KRI 射频离子源 RFICP 380 和 分子泵组用于溅射沉积 Cu 薄膜

  2020-09-29

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• 伯东 KRI 双离子源辅助离子束溅射技术获取高反射吸收Ta2O5薄膜

  2020-09-24

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• KRI 霍尔离子源辅助制备碳化硅改性薄膜

  2020-08-28

  阅读数：1722

  KRI 考夫曼离子源应用案例

• KRI 离子源辅助镀膜 IAD 时, 霍尔离子源和考夫曼离子源, 哪个好

  2020-08-21

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  KRI 考夫曼离子源应用案例

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  2020-07-24

  阅读数：2691

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• 上海伯东 普发 Pfeiffer 检漏仪 ASM 310 成功应用于光学镀膜机

  2020-07-14

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• 伯东 KRI霍尔离子源在样品清洗前处理中的应用

  2020-07-07

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• 分子泵为什么需要前级泵？Pfeiffer涡轮分子泵真空原理 | 上海伯东

  2020-06-02

  阅读数：5624

  Pfeiffer 普发 真空泵应用案例

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档案搜寻结果

依据您输入的关键字：ath产生档案搜寻结果，共51笔

• 普发 Pfeiffer ATH 4506 涡轮分子真空泵

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  普发 Pfeiffer 真空泵

  2026-04-22

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• 阿尔卡特全磁浮涡轮分子泵 Adixen ATH 1600 MT

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  普发 Pfeiffer 真空泵

  2020-06-17

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• 阿尔卡特全磁浮涡轮分子泵 Adixen ATH 1603 M

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  普发 Pfeiffer 真空泵

  2020-06-17

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• 阿尔卡特全磁浮涡轮分子泵 Adixen ATH 2303 M

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  普发 Pfeiffer 真空泵

  2020-06-17

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• 阿尔卡特全磁浮涡轮分子泵 Adixen ATH 2300 MT

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  普发 Pfeiffer 真空泵

  2020-06-17

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• 阿尔卡特全磁浮涡轮分子泵 Adixen ATH 2800 M

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• 阿尔卡特全磁浮涡轮分子泵 Adixen ATH 3200 M

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  普发 Pfeiffer 真空泵

  2020-06-17

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• 磁悬浮分子泵 ATH 500 M,DN 100 ISO-K,遥控,风冷

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  2020-06-12

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• 磁悬浮分子泵 ATH 500 M,DN 100 ISO-K,遥控,水冷

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• 磁悬浮分子泵 ATH 500 M,DN 100 CF-F,遥控,风冷

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• 磁悬浮分子泵 ATH 500 M,DN 100 CF-F,遥控,水冷

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• 磁悬浮分子泵 ATH 500 M,DN 100 ISO-F,遥控,风冷

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• 磁悬浮分子泵 ATH 500 M,DN 100 ISO-F,遥控,水冷

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• 磁悬浮分子泵 ATH 500 M,DN 160 ISO-K,遥控,风冷

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• 磁悬浮分子泵 ATH 500 M,DN 160 CF-F,遥控,风冷

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• 磁悬浮分子泵 ATH 500 M,DN 100 ISO-K,Profibus,风冷

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• 磁悬浮分子泵 ATH 500 M,DN 100 ISO-K,Profibus,水冷

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• 磁悬浮分子泵 ATH 500 M,DN 100 CF-F,Profibus,风冷

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• 磁悬浮分子泵 ATH 500 M,DN 100 CF-F,Profibus,水冷

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• 磁悬浮分子泵 ATH 500 M,DN 100 ISO-F,Profibus,风冷

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• 磁悬浮分子泵 ATH 500 M,DN 160 ISO-K,Profibus,风冷

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• 磁悬浮分子泵 ATH 500 M,DN 160 ISO-F,Profibus,水冷

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• 磁悬浮分子泵 ATH 500 M,DN 160 CF-F,Profibus,水冷

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• ATH 1603 M,DN 250 CF-F,OBC V4 集成驱动电子设备,遥控,水冷,非加热

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• ATH 1603 M,DN 250 CF-F,OBC V4 集成驱动电子,Devicenet,水冷,

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• ATH 1603 M,DN 250 CF-F,OBC V4 集成电子设备,Profibus,水冷,非

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• ATH 1603 M,DN 200 CF-F,OBC V4 集成驱动电子设备,遥控,水冷,非加热

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• 全磁浮分子泵 ATH 2804 M/ATH 3204 M 宣传册

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• 全磁浮分子泵 ATH 2300 MT,DN 250 CF-F,外接控制器,水冷,加热

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• 全磁浮分子泵 ATH 2300 MT,DN 250 ISO-F,外接控制器,水冷,加热

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• 全磁浮分子泵 ATH 2303 M,DN 250 CF-F,外接控制器,水冷,不加热

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• 全磁浮分子泵 ATH 2303 M,DN 250 CF-F,OBCV4 集成控制器,遥控,水冷,不加

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• 全磁浮分子泵 ATH 2303 M,DN 250 ISO-F,外接控制器,水冷,不加热

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• 全磁浮分子泵 ATH 2303 M,DN 250 ISO-F,OBCV4集成控制器,遥控,水冷,不加

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• 分子泵 ATH 2303 M,DN 250 CF-F,OBCV4控制器,Profibus,水冷,不加

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• 分子泵ATH 2303 M,DN 250 ISO-F,OBCV4控制器,Profibus,水冷,不加

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• 分子泵ATH 2303 M,DN 250 CF-F,OBCV4控制器,Devicenet,水冷,不加

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• 分子泵ATH 2303 M,DN 250 ISO-F,OBCV4控制器,Devicenet,水冷,不

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• ATH 2804 M,DN 250 ISO-F,外部驱动电子设备,水冷,非加热

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• ATH 2804 M,DN 250 ISO-F,外部驱动电子设备,水冷,加热

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• 涡轮分子泵 ATH 3204 M,DN 320 ISO-F,外部驱动电子设备,水冷,非加热

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• 涡轮分子泵 ATH 3204 M,DN 320 ISO-F,外部驱动电子设备,水冷,加热

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• 涡轮分子泵 Hipace 系列产品宣传手册

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  普发 Pfeiffer 真空泵

  2020-06-10

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新闻搜寻结果

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  普发 Pfeiffer 推出新型 ATH 4506 M 涡轮分子真空泵 | 抽速 4,500 l/s

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  德国普发 Pfeiffer Vacuum+FabSolutions（隶属于全球 Busch 集团）正式推出 ATH-M 系列最新最大型号——ATH 4506 M 涡轮分子真空泵。该产品对氮气的抽速高达 4,500 l/s，适用于半导体制造、大面积涂层、高气体流量工艺及大型真空室（如空间模拟）等严苛应用场景。

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  2026-04-22

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  KRI 霍尔型离子源 Gridless

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  美国 KRI 霍尔离子源 eH 系列紧凑设计, 高电流低能量宽束型离子源, 提供原子等级的细微加工能力, 霍尔离子源 eH 可以有效地以纳米精度来处理薄膜及表面, 多种型号满足科研及工业, 半导体应用.

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  2023-05-09

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  KRi 霍尔离子源溅镀镀膜预清洁工艺 Pre-clean

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  2021-08-19

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